उच्च शुद्धता 99.95% टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य
प्रकार आणि आकार
| उत्पादनाचे नांव | टंगस्टन(W-1) स्पटरिंग लक्ष्य |
| उपलब्ध शुद्धता(%) | 99.95% |
| आकार: | प्लेट, गोल, रोटरी |
| आकार | OEM आकार |
| हळुवार बिंदू (℃) | ३४०७(℃) |
| आण्विक खंड | 9.53 cm3/mol |
| घनता(g/cm³) | 19.35g/cm³ |
| प्रतिरोधक तापमान गुणांक | 0.00482 I/℃ |
| उदात्तीकरण उष्णता | 847.8 kJ/mol(25℃) |
| वितळण्याची अव्यक्त उष्णता | 40.13±6.67kJ/mol |
| पृष्ठभागाची स्थिती | पोलिश किंवा अल्कली वॉश |
| अर्ज: | एरोस्पेस, दुर्मिळ पृथ्वी smelting, विद्युत प्रकाश स्रोत, रासायनिक उपकरणे, वैद्यकीय उपकरणे, धातू यंत्रसामग्री, smelting |
वैशिष्ट्ये
(1) छिद्र, स्क्रॅच आणि इतर अपूर्णता नसलेली गुळगुळीत पृष्ठभाग
(२) ग्राइंडिंग किंवा लॅथिंग एज, कटिंगच्या खुणा नाहीत
(३) भौतिक शुद्धतेचा अजेय लेरल
(4) उच्च लवचिकता
(5) एकसंध सूक्ष्म ट्रूकल्चर
(6) नाव, ब्रँड, शुद्धता आकार आणि याप्रमाणे तुमच्या विशेष वस्तूसाठी लेझर मार्किंग
(७) पावडर मटेरिअल आयटम आणि नंबर, मिक्सिंग वर्कर्स, आउटगॅस आणि एचआयपी टाइम, मशीनिंग पर्सन आणि पॅकिंग डिटेल्स मधील स्पटरिंग टार्गेट्सचे प्रत्येक पीसी आपण स्वतः तयार केले आहेत.
अर्ज
1. पातळ-फिल्म मटेरियल बनवण्याचा एक महत्त्वाचा मार्ग म्हणजे थुंकणे—भौतिक वाफ जमा करण्याचा एक नवीन मार्ग (PVD).लक्ष्याद्वारे बनविलेले पातळ-चित्र उच्च घनता आणि चांगले चिकटपणा द्वारे दर्शविले जाते.मॅग्नेट्रॉन स्पटरिंग तंत्र मोठ्या प्रमाणावर लागू केले जात असल्याने, उच्च शुद्ध धातू आणि मिश्र धातु लक्ष्यांची खूप गरज आहे.उच्च वितळण्याचे बिंदू, लवचिकता, थर्मल विस्ताराचे कमी गुणांक, प्रतिरोधकता आणि सूक्ष्म उष्णता स्थिरता, शुद्ध टंगस्टन आणि टंगस्टन मिश्र धातु लक्ष्ये अर्धसंवाहक एकात्मिक सर्किट, द्विमितीय प्रदर्शन, सौर फोटोव्होल्टेइक, एक्स-रे ट्यूब आणि पृष्ठभाग अभियांत्रिकीमध्ये मोठ्या प्रमाणावर वापरले जातात.
2. हे दोन्ही जुन्या स्पटरिंग उपकरणांसह तसेच नवीनतम प्रक्रिया उपकरणे, जसे की सौर ऊर्जा किंवा इंधन सेल आणि फ्लिप-चिप अनुप्रयोगांसाठी मोठ्या क्षेत्रावरील कोटिंगसह कार्य करू शकते.
संबंधित उत्पादने
-
टंगस्टन कॉपर मिश्र धातु रॉड्स
वर्णन कॉपर टंगस्टन (CuW, WCu) हे उच्च प्रवाहकीय आणि मिटवण्यास प्रतिरोधक संमिश्र सामग्री म्हणून ओळखले गेले आहे जे मोठ्या प्रमाणावर EDM मशीनिंग आणि रेझिस्टन्स वेल्डिंग ऍप्लिकेशन्समध्ये कॉपर टंगस्टन इलेक्ट्रोड म्हणून वापरले जाते, उच्च व्होल्टेज ऍप्लिकेशन्समधील विद्युत संपर्क आणि उष्णता सिंक आणि इतर इलेक्ट्रॉनिक पॅकेजिंगमध्ये वापरले जाते. थर्मल ऍप्लिकेशन्समधील साहित्य.WCu 70/30, WCu 75/25 आणि WCu 80/20 हे सर्वात सामान्य टंगस्टन/तांबे गुणोत्तर आहेत.इतर...
-
निओबियम वायर
वर्णन R04200 -प्रकार 1, अणुभट्टी ग्रेड अनलॉयड नायबियम;R04210 -प्रकार 2, कमर्शियल ग्रेड अनलॉयड निओबियम;R04251 -प्रकार 3, अणुभट्टी ग्रेड निओबियम मिश्र धातु ज्यामध्ये 1% झिरकोनियम आहे;R04261 -प्रकार 4, 1% झिर्कोनियम असलेले व्यावसायिक ग्रेड निओबियम मिश्र धातु;प्रकार आणि आकार: धातूची अशुद्धता, वजनानुसार ppm कमाल, शिल्लक - Niobium Element Fe Mo Ta Ni Si W Zr Hf सामग्री 50 100 1000 50 50 300 200 200 धातू नसलेली अशुद्धता, वजनानुसार ppm कमाल...
-
मॉलिब्डेनम कॉपर मिश्र धातु, MoCu मिश्र धातु शीट
प्रकार आणि आकार सामग्री Mo सामग्री Cu सामग्री घनता थर्मल चालकता 25℃ CTE 25℃ Wt% Wt% g/cm3 W/M∙K (10-6/K) Mo85Cu15 85±1 शिल्लक 10 160-180 6.8 Mo80Cu120 ±80Cu10 शिल्लक 9.9 170-190 7.7 Mo70Cu30 70±1 शिल्लक 9.8 180-200 9.1 Mo60Cu40 60±1 शिल्लक 9.66 210-250 10.3 Mo50Cu50 50±0.204± 9.5202 शिल्लक
-
मोलिब्डेनम हीट शील्ड आणि शुद्ध मो स्क्रीन
वर्णन उच्च घनता, अचूक परिमाण, गुळगुळीत पृष्ठभाग, सोयीस्कर असेंब्ली आणि वाजवी-डिझाइन असलेले मोलिब्डेनम हीट शील्डिंग भाग क्रिस्टल-पुलिंग सुधारण्यात खूप महत्त्व देतात.नीलम ग्रोथ फर्नेसमधील उष्णता-ढाल भाग म्हणून, मॉलिब्डेनम हीट शील्ड (मॉलिब्डेनम रिफ्लेक्शन शील्ड) चे सर्वात निर्णायक कार्य म्हणजे उष्णता रोखणे आणि परावर्तित करणे.मॉलिब्डेनम हीट शील्डचा वापर इतर उष्णतेच्या गरजा टाळण्यासाठी देखील केला जाऊ शकतो...
-
लॅन्थेनेटेड टंगस्टन मिश्र धातु रॉड
वर्णन लॅन्थेनेटेड टंगस्टन हे ऑक्सिडाइज्ड लॅन्थॅनम डोपड टंगस्टन मिश्र धातु आहे, ज्याचे वर्गीकरण ऑक्सिडाइज्ड रेअर अर्थ टंगस्टन (W-REO) म्हणून केले जाते.जेव्हा विखुरलेले लॅन्थॅनम ऑक्साईड जोडले जाते, तेव्हा लॅन्थेनेटेड टंगस्टन वर्धित उष्णता प्रतिरोधकता, थर्मल चालकता, रेंगाळण्याची प्रतिकारशक्ती आणि उच्च पुनर्क्रियीकरण तापमान दाखवते.हे उत्कृष्ट गुणधर्म लॅन्थेनेटेड टंगस्टन इलेक्ट्रोड्सना चाप सुरू करण्याची क्षमता, चाप इरोशन ... मध्ये अपवादात्मक कामगिरी प्राप्त करण्यास मदत करतात.
-
टॅंटलम स्पटरिंग लक्ष्य - डिस्क
वर्णन टॅंटलम स्पटरिंग लक्ष्य प्रामुख्याने सेमीकंडक्टर उद्योग आणि ऑप्टिकल कोटिंग उद्योगात लागू केले जाते.सेमीकंडक्टर उद्योग आणि ऑप्टिकल उद्योगातील ग्राहकांच्या विनंतीनुसार आम्ही व्हॅक्यूम ईबी फर्नेस स्मेल्टिंग पद्धतीद्वारे टॅंटलम स्पटरिंग लक्ष्यांची विविध वैशिष्ट्ये तयार करतो.अनन्य रोलिंग प्रक्रियेपासून सावध राहून, क्लिष्ट उपचार आणि अचूक अॅनिलिंग तापमान आणि वेळेद्वारे, आम्ही विविध आयाम तयार करतो ...
